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半導体フォトマスク市場、2016年は33億米ドル

4/19(水) 16:40配信

EE Times Japan

■2017年に4%増、2018年に3%増の成長率見込む

 SEMIは2017年4月、半導体フォトマスクの世界市場が2016年に33億2000万米ドルになったと発表した。2018年の市場規模は35億7000万米ドルと予測する。

 SEMIによると、半導体フォトマスクの世界市場は、2015年に前年比1%増、2016年に同2%増となった。今後も2017年に同4%、2018年に同3%の成長率がそれぞれ見込まれるという。

 半導体フォトマスクの需要をけん引しているのは45nm未満の微細プロセスである。また、地域別ではアジア太平洋地域おける需要拡大が、半導体フォトマスク市場の成長を支える。特に、台湾は6年連続で最大市場となった。少なくとも今回予測した2018年まで、その傾向は変わらないとみている。

 半導体ウエハープロセス材料市場の中で、半導体フォトマスクの販売構成比は13%である。これは、シリコンウエハーとガスに次ぐ大きさである。過去にさかのぼると2003年には半導体フォトマスクの販売構成比が18%を占めていた。その当時に比べると5ポイント低下している。

 業界の大きなトレンドとしてSEMIは、内製マスクショップの比率が高まっていると指摘する。全ての半導体フォトマスク市場において、内製マスクショップの比率は2003年に31%であった。それが2015年は56%となり、2016年は63%に達するなど、その構成比率は逆転し、市場の環境が大きく変わってきたという。

 今回発表したデータは、このほど発行された「2016年版フォトマスクレポート」に収録されている。データは北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国および、その他地域に分類している。また、2003年以降の実績と2018年までの予測データが地域ごとにまとめられている。

最終更新:4/19(水) 16:40
EE Times Japan