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次世代パワー半導体材料に酸化ガリウム急浮上、京大発VBのフロスフィアがSBD事業化へ

日刊工業新聞電子版 6/8(木) 14:50配信

酸化ガリウム半導体のショットキーバリアーダイオードのサンプル

(日刊工業新聞電子版)

最終更新:6/8(木) 14:50

日刊工業新聞電子版